Description :

Demi-masque Elipse SPR581 GVS avec filtres gas/poussières ABE1P3 taille M/L

Ce masque de protection est conçu pour offrir une sécurité maximale dans des environnements industriels, où il y a des risques multigaz et de poussières, à l'exception de l'ammoniac. Il est conçu pour être confortable, durable et facile à utiliser. Voici ses caractéristiques principales :

Polyvalence : Convient à une variété de situations, y compris l'exposition à des gaz organiques, des gaz inorganiques, du formaldéhyde, des gaz chimiques et des poussières.
Léger et compact : Ce masque est extrêmement léger et compact pour assurer le confort de l'utilisateur. Il ne gêne pas les autres équipements de protection, tels que les lunettes de protection ou les protecteurs auditifs.
Champ de vision complet : Il offre un champ de vision complet sans interférer avec d'autres équipements de protection. Cela garantit que l'utilisateur peut travailler en toute sécurité tout en ayant une vue dégagée.
Faible résistance respiratoire : Ce masque offre une faible résistance respiratoire pour minimiser la fatigue de l'utilisateur et assurer un confort supplémentaire lorsqu'il est porté pendant de longues périodes.
Filtres remplaçables : Les filtres du masque ont une durée de vie jusqu'à 3 ans et peuvent être facilement remplacés pour maintenir l'efficacité du masque.
Matériau de qualité : Fabriqué à partir d'élastomère thermoplastique doux, ce masque est inodore et hypoallergénique, ne contenant ni latex ni silicone. Il est confortable à porter, même pendant de longues périodes.
Certifications : Le masque est certifié selon les normes EN140:1998 pour le corps du masque, EN14387:2004 + A1:2008 pour les filtres ABE1P3 R D, et il porte la marque CE 2797.
Applications : Il convient à diverses applications, notamment dans les mines, les aciéries, les fonderies, l'industrie mécanique, pharmaceutique, du ciment, la gestion des déchets, la construction, l'industrie des métaux lourds, la peinture, les solvants, l'agriculture (pulvérisation chimique) et d'autres environnements similaires.